半導体産業技術研究所/Research Institute for Semiconductor Engineering

第10回生体医歯工学共同研究拠点国際シンポジウムと国際ナノデバイステクノロジーワークショップ2025を開催 (2025年10月30-31日)

2025/06/18
令和7年10月30日と31日に東広島市術文化ホール(広島県東広島市)にて、第10回生体医歯工学共同研究拠点国際シンポジウム(ISBE2025)と国際ナノデバイステクノロジーワークショップ2025(IWNT2025)を開催いたします。

国内外の著名な研究者の招待講演を予定しています。
多数のご参加をお待ちしております。

■ウェブサイト:
https://www.rise.hiroshima-u.ac.jp/isbe-iwnt2025/

■参加費: 無料 (懇親会参加費6000円(通常)、無料(学生))

■参加申込受付:
https://www.rise.hiroshima-u.ac.jp/isbe-iwnt2025/
(参加申込締切:10月3日)

■プログラム: ウェブサイトでご確認ください。

■使用言語: 英語

■招待講演者:
Kazuaki Sawada (Toyohashi University of Technology, Japan)
Matthew Marinella (Arizona State University, USA)
Elton Graugnard (Boise State University, USA)
Xia Xiao (Tianjin University, China)
Hiroki Nikawa (Hiroshima University, Japan)
Yongzhao YAO (Mie University, Japan)
Tomohiro Yamaguchi (Kogakuin University, Japan)
Kevin C.-W. Wu (National Taiwan University, Taiwan)
Masaya Hagiwara (RIKEN, Japan)
Kung-Hwa Wei (National Yang Ming Chiao Tung University, Taiwan)
Yu-Chieh Lo (National Yang Ming Chiao Tung University, Taiwan)
Hong-Cheu Lin (National Yang Ming Chiao Tung University, Taiwan)
Yan-Gu Lin (National Yang Ming Chiao Tung University, Taiwan)
Chia-Yu Lin (National Cheng Kung University, Taiwan)
Yi-Hsuan Lai (National Cheng Kung University, Taiwan)

■ISBE2025/IWNT2025
主催:
東京科学大学生体材料工学研究所
東京科学大学未来産業技術研究所
広島大学半導体産業技術研究所
静岡大学電子工学研究所

共催:
せとうち半導体共創コンソーシアム

協賛:
マイクロンメモリジャパン
マテリアル先端リサーチインフラ

■お問い合わせ先: 広島大学半導体産業技術研究所
ISBE2025/IWNT2025事務局メール:
info@isbe-iwnt2025.jp
電話: 082-424-6265

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